Study of the technique of measuring silica oxide films with the optical reflection method, for its possible implementation using low-cost materials /
Tinoco Mosquera, Fabián Patricio
Study of the technique of measuring silica oxide films with the optical reflection method, for its possible implementation using low-cost materials / Fabián Patricio Tinoco Mosquera ; tutor Werner Bramer Escamilla - 78 hojas : ilustraciones (algunas a color) ; 30 cm + 1 CD-ROM
Trabajo de integración curricular
Incluye referencias bibliográficas (páginas 59-62)
Trabajo de integración curricular con acceso abierto
Texto (Hypertexto links)
En el siguiente trabajo vamos a describir el funcionamiento de un equipo capaz de medir el espesor de película de una muestra de óxido de silicio sobre un sustrato de silicio, este equipo utiliza una técnica de caracterización óptica llamada reflectancia espectral. Para lograr eso, primero abordamos la teoría necesaria para comprender el funcionamiento del equipo, esto lo hacemos para cada parte del equipo de medición, las cuales son: fuente de luz, divisor de fibra óptica, espectrómetro y muestra. A continuación, presentamos una propuesta de diseño para un dispositivo con las mismas características y que utiliza la misma técnica de caracterización. Para la elección de los componentes de nuestra propuesta, se toma en cuenta diferentes parámetros técnicos y de costos. Se espera que en el futuro esta propuesta de diseño se pueda utilizar para construir e implementar este equipo en los laboratorios de la Universidad Yachay Tech. Esta herramienta proporcionará a los estudiantes y profesores la capacidad de caracterizar deposiciones de película delgada de óxido de silicio para sus actividades de aprendizaje o investigación. De esta manera, se creará un impacto positivo para la Universidad Yachay Tech
Textos en inglés con resúmenes en español e inglés
Espesor
Reflectancia espectral
Interferencias
Equipamiento
Fibra óptica
Thickness
Spectral reflectance
Interference
Nanotecnología--Trabajos y disertaciones académicas
Study of the technique of measuring silica oxide films with the optical reflection method, for its possible implementation using low-cost materials / Fabián Patricio Tinoco Mosquera ; tutor Werner Bramer Escamilla - 78 hojas : ilustraciones (algunas a color) ; 30 cm + 1 CD-ROM
Trabajo de integración curricular
Incluye referencias bibliográficas (páginas 59-62)
Trabajo de integración curricular con acceso abierto
Texto (Hypertexto links)
En el siguiente trabajo vamos a describir el funcionamiento de un equipo capaz de medir el espesor de película de una muestra de óxido de silicio sobre un sustrato de silicio, este equipo utiliza una técnica de caracterización óptica llamada reflectancia espectral. Para lograr eso, primero abordamos la teoría necesaria para comprender el funcionamiento del equipo, esto lo hacemos para cada parte del equipo de medición, las cuales son: fuente de luz, divisor de fibra óptica, espectrómetro y muestra. A continuación, presentamos una propuesta de diseño para un dispositivo con las mismas características y que utiliza la misma técnica de caracterización. Para la elección de los componentes de nuestra propuesta, se toma en cuenta diferentes parámetros técnicos y de costos. Se espera que en el futuro esta propuesta de diseño se pueda utilizar para construir e implementar este equipo en los laboratorios de la Universidad Yachay Tech. Esta herramienta proporcionará a los estudiantes y profesores la capacidad de caracterizar deposiciones de película delgada de óxido de silicio para sus actividades de aprendizaje o investigación. De esta manera, se creará un impacto positivo para la Universidad Yachay Tech
Textos en inglés con resúmenes en español e inglés
Espesor
Reflectancia espectral
Interferencias
Equipamiento
Fibra óptica
Thickness
Spectral reflectance
Interference
Nanotecnología--Trabajos y disertaciones académicas