000			02995nam a22003857a 4500
003			EC-UrYT
005			20221206104833.0
008			150116t9999 mx r gr 000 0 spa d
040			_cEC-UrYT
041			_aeng _bspa
100	1		_914431 _aTinoco Mosquera, Fabián Patricio _eautor
245	1	0	_aStudy of the technique of measuring silica oxide films with the optical reflection method, for its possible implementation using low-cost materials / _cFabián Patricio Tinoco Mosquera ; tutor Werner Bramer Escamilla
264		4	_aUrcuquí, _c2020
300			_a78 hojas : _bilustraciones (algunas a color) ; _c30 cm + _e1 CD-ROM
502			_aTrabajo de integración curricular _b(Ingeniero/a en Nanotecnología). _cUniversidad de Investigación de Tecnología Experimental Yachay. _gUrcuquí, _d2020
504			_aIncluye referencias bibliográficas (páginas 59-62)
506			_aTrabajo de integración curricular con acceso abierto
516			_aTexto (Hypertexto links)
520			_aEn el siguiente trabajo vamos a describir el funcionamiento de un equipo capaz de medir el espesor de película de una muestra de óxido de silicio sobre un sustrato de silicio, este equipo utiliza una técnica de caracterización óptica llamada reflectancia espectral. Para lograr eso, primero abordamos la teoría necesaria para comprender el funcionamiento del equipo, esto lo hacemos para cada parte del equipo de medición, las cuales son: fuente de luz, divisor de fibra óptica, espectrómetro y muestra. A continuación, presentamos una propuesta de diseño para un dispositivo con las mismas características y que utiliza la misma técnica de caracterización. Para la elección de los componentes de nuestra propuesta, se toma en cuenta diferentes parámetros técnicos y de costos. Se espera que en el futuro esta propuesta de diseño se pueda utilizar para construir e implementar este equipo en los laboratorios de la Universidad Yachay Tech. Esta herramienta proporcionará a los estudiantes y profesores la capacidad de caracterizar deposiciones de película delgada de óxido de silicio para sus actividades de aprendizaje o investigación. De esta manera, se creará un impacto positivo para la Universidad Yachay Tech
546			_aTextos en inglés con resúmenes en español e inglés
650		0	_914432 _aEspesor
650		0	_914433 _aReflectancia espectral
650		0	_96085 _aInterferencias
650		0	_914434 _aEquipamiento
650		0	_914435 _aFibra óptica
650		0	_914436 _aThickness
650		0	_914437 _aSpectral reflectance
650		0	_914438 _aInterference
650		0	_92091 _aNanotecnología _vTrabajos y disertaciones académicas
700	1		_911279 _aBramer Escamilla, Werner _etutor
710	1		_911232 _aUniversidad de Investigación de Tecnología Experimental Yachay. _bEscuela de Ciencias Físicas y Nanotecnología
856			_zVer recurso _uhttp://repositorio.yachaytech.edu.ec/handle/123456789/288
942			_2ddc _cTIC
999			_c4268 _d4268