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Nanoscale MOS transistors : semi-classical transport and applications / David Esseni, Pierpaolo Palestri, Luca Selmi.

Por: Colaborador(es): Tipo de material: TextoTextoDetalles de publicación: Cambridge ; New York : Cambridge University Press, 2011.Descripción: xvii, 470 pages : illustrations ; 18 x 26 cmISBN:
  • 9780521516846 (hardback)
Tema(s): Clasificación CDD:
  • 621.381528 22
Contenidos parciales:
Bulk semiconductors and the semi-classical model -- Quantum confined inversion layers -- Carrier scattering in silicon MOS transistors -- The Boltzmann transport equation -- The Monte Carlo method for the Boltzmann transport equation -- Simulation of bulk and SOI silicon MOSFETs; 8. MOS transistors with arbitrary crystal orientation -- MOS transistors with strained silicon channels -- MOS transistors with alternative materials.
Resumen: "Written from an engineering standpoint, this book provides the theoretical background and physical insight needed to understand new and future developments in the modeling and design of n- and p-MOS nanoscale transistors. A wealth of applications, illustrations and examples connect the methods described to all the latest issues in nanoscale MOSFET design. Key areas covered include: Transport in arbitrary crystal orientations and strain conditions, and new channel and gate stack materials All the relevant transport regimes, ranging from low field mobility to quasi-ballistic transport, described using a single modeling framework Predictive capabilities of device models, discussed with systematic comparisons to experimental results"--
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Colección general Colección general Biblioteca Yachay Tech 621.381528 E785n 2011 (Navegar estantería(Abre debajo)) Ej. 2 Disponible 002947
Colección general Colección general Biblioteca Yachay Tech 621.381528 E785n 2011 (Navegar estantería(Abre debajo)) Ej. 3 Disponible 002948
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Includes bibliographical references and index.

Bulk semiconductors and the semi-classical model -- Quantum confined inversion layers -- Carrier scattering in silicon MOS transistors -- The Boltzmann transport equation -- The Monte Carlo method for the Boltzmann transport equation -- Simulation of bulk and SOI silicon MOSFETs; 8. MOS transistors with arbitrary crystal orientation -- MOS transistors with strained silicon channels -- MOS transistors with alternative materials.

"Written from an engineering standpoint, this book provides the theoretical background and physical insight needed to understand new and future developments in the modeling and design of n- and p-MOS nanoscale transistors. A wealth of applications, illustrations and examples connect the methods described to all the latest issues in nanoscale MOSFET design. Key areas covered include: Transport in arbitrary crystal orientations and strain conditions, and new channel and gate stack materials All the relevant transport regimes, ranging from low field mobility to quasi-ballistic transport, described using a single modeling framework Predictive capabilities of device models, discussed with systematic comparisons to experimental results"--

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