Detalles MARC
000 -CABECERA |
Campo de control de longitud fija |
02995nam a22003857a 4500 |
003 - IDENTIFICADOR DEL NÚMERO DE CONTROL |
Campo de control |
EC-UrYT |
005 - FECHA Y HORA DE LA ÚLTIMA TRANSACCIÓN |
Campo de control |
20221206104833.0 |
008 - CÓDIGOS DE INFORMACIÓN DE LONGITUD FIJA |
Campo de control de longitud fija |
150116t9999 mx r gr 000 0 spa d |
040 ## - FUENTE DE LA CATALOGACIÓN |
Centro transcriptor |
EC-UrYT |
041 ## - CÓDIGO DE LENGUA |
Código de lengua del texto/banda sonora o título independiente |
eng |
Código de lengua del sumario o resumen |
spa |
100 1# - PUNTO DE ACCESO PRINCIPAL - NOMBRE DE PERSONA |
9 (RLIN) |
14431 |
Nombre de persona |
Tinoco Mosquera, Fabián Patricio |
Término indicativo de función |
autor |
245 10 - MENCIÓN DE TÍTULO |
Título |
Study of the technique of measuring silica oxide films with the optical reflection method, for its possible implementation using low-cost materials / |
Mención de responsabilidad etc. |
Fabián Patricio Tinoco Mosquera ; tutor Werner Bramer Escamilla |
264 #4 - PRODUCCIÓN, PUBLICACIÓN, DISTRIBUCIÓN, FABRICACIÓN Y COPYRIGHT |
Lugar de producción |
Urcuquí, |
Fecha de producción |
2020 |
300 ## - DESCRIPCIÓN FÍSICA |
Extensión |
78 hojas : |
Otras características físicas |
ilustraciones (algunas a color) ; |
Dimensiones |
30 cm + |
Material anejo |
1 CD-ROM |
502 ## - NOTA DE TESIS |
Nota de tesis |
Trabajo de integración curricular |
Tipo de título |
(Ingeniero/a en Nanotecnología). |
Nombre de la institución que otorga el título |
Universidad de Investigación de Tecnología Experimental Yachay. |
Ciudad de la institución que otorga el título |
Urcuquí, |
Año de obtención del título |
2020 |
504 ## - NOTA DE BIBLIOGRAFÍA; ETC. |
Nota de bibliografía etc. |
Incluye referencias bibliográficas (páginas 59-62) |
506 ## - NOTA DE RESTRICCIONES AL ACCESO |
Limitaciones de acceso |
Trabajo de integración curricular con acceso abierto |
516 ## - NOTA DE TIPO DE ARCHIVO DE ORDENADOR O DE DATOS |
Nota de tipo de archivo de ordenador o de datos |
Texto (Hypertexto links) |
520 ## - NOTA DE SUMARIO; ETC. |
Sumario etc. |
En el siguiente trabajo vamos a describir el funcionamiento de un equipo capaz de medir el espesor de película de una muestra de óxido de silicio sobre un sustrato de silicio, este equipo utiliza una técnica de caracterización óptica llamada reflectancia espectral. Para lograr eso, primero abordamos la teoría necesaria para comprender el funcionamiento del equipo, esto lo hacemos para cada parte del equipo de medición, las cuales son: fuente de luz, divisor de fibra óptica, espectrómetro y muestra. A continuación, presentamos una propuesta de diseño para un dispositivo con las mismas características y que utiliza la misma técnica de caracterización. Para la elección de los componentes de nuestra propuesta, se toma en cuenta diferentes parámetros técnicos y de costos. Se espera que en el futuro esta propuesta de diseño se pueda utilizar para construir e implementar este equipo en los laboratorios de la Universidad Yachay Tech. Esta herramienta proporcionará a los estudiantes y profesores la capacidad de caracterizar deposiciones de película delgada de óxido de silicio para sus actividades de aprendizaje o investigación. De esta manera, se creará un impacto positivo para la Universidad Yachay Tech |
546 ## - NOTA DE LENGUA |
Nota de lengua |
Textos en inglés con resúmenes en español e inglés |
650 #0 - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL DE MATERIA - TÉRMINO DE MATERIA |
9 (RLIN) |
14432 |
Término de materia o nombre geográfico como elemento inicial |
Espesor |
650 #0 - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL DE MATERIA - TÉRMINO DE MATERIA |
9 (RLIN) |
14433 |
Término de materia o nombre geográfico como elemento inicial |
Reflectancia espectral |
650 #0 - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL DE MATERIA - TÉRMINO DE MATERIA |
9 (RLIN) |
6085 |
Término de materia o nombre geográfico como elemento inicial |
Interferencias |
650 #0 - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL DE MATERIA - TÉRMINO DE MATERIA |
9 (RLIN) |
14434 |
Término de materia o nombre geográfico como elemento inicial |
Equipamiento |
650 #0 - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL DE MATERIA - TÉRMINO DE MATERIA |
9 (RLIN) |
14435 |
Término de materia o nombre geográfico como elemento inicial |
Fibra óptica |
650 #0 - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL DE MATERIA - TÉRMINO DE MATERIA |
9 (RLIN) |
14436 |
Término de materia o nombre geográfico como elemento inicial |
Thickness |
650 #0 - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL DE MATERIA - TÉRMINO DE MATERIA |
9 (RLIN) |
14437 |
Término de materia o nombre geográfico como elemento inicial |
Spectral reflectance |
650 #0 - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL DE MATERIA - TÉRMINO DE MATERIA |
9 (RLIN) |
14438 |
Término de materia o nombre geográfico como elemento inicial |
Interference |
650 #0 - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL DE MATERIA - TÉRMINO DE MATERIA |
9 (RLIN) |
2091 |
Término de materia o nombre geográfico como elemento inicial |
Nanotecnología |
Subdivisión de forma |
Trabajos y disertaciones académicas |
700 1# - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL - NOMBRE DE PERSONA |
9 (RLIN) |
11279 |
Nombre de persona |
Bramer Escamilla, Werner |
Término indicativo de función |
tutor |
710 1# - PUNTO DE ACCESO ADICIONAL - NOMBRE DE ENTIDAD |
9 (RLIN) |
11232 |
Nombre de entidad o nombre de jurisdicción como elemento inicial |
Universidad de Investigación de Tecnología Experimental Yachay. |
Unidad subordinada |
Escuela de Ciencias Físicas y Nanotecnología |
856 ## - LOCALIZACIÓN Y ACCESO ELECTRÓNICOS |
Nota pública |
Ver recurso |
Identificador Uniforme del Recurso (URI) |
http://repositorio.yachaytech.edu.ec/handle/123456789/288 |
942 ## - ENTRADA PARA ELEMENTOS AGREGADOS (KOHA) |
Fuente de clasificación o esquema de ordenación en estanterías |
Clasificación Decimal Dewey |
Koha [por defecto] tipo de item |
Tesis |